Licenca
To delo je na voljo pod pogoji slovenske licence Creative Commons 2.5:

priznanje avtorstva - nekomercialno - deljenje pod enakimi pogoji.

Celotna licenca je na voljo na spletu na naslovu http://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/2.5/si/. V skladu s to licenco je dovoljeno vsakemu uporabniku delo razmnoževati, distribuirati, javno priobčevati, dajati v najem in tudi predelovati, vendar samo v nekomercialne namene in ob pogoju, da navede avtorja oziroma avtorje in izdajatelja tega dela. Če uporabnik delo predela, kar pomeni, da ga spremeni, preoblikuje, prevede ali uporabi to delo v svojem delu, lahko predelavo dela ponudi na voljo le pod pogoji, ki so enaki pogojem iz te licence oziroma pod enako licenco.

Eliminacija E2 (višja raven)

Eliminacija drugega reda poteče tako kot substitucija SN2 v enem samem koraku. Mehanizem si oglejte na animaciji.

Pogoji za potek E2

Eliminacija drugega reda (E2) poteka prvenstveno takrat, ko je halogen vezan na terciarni ogljikov atom. Ugodno topilo je polarno aprotično, to je topilo, ki na kisikov atom nima vezanega vodikovega atoma (npr. aceton - CH3COCH3, eter - CH3CH2OCH2CH3), in ob prisotnosti nukleofila, ki je močna baza. Značilni pogoji, pri katerih prednostno poteče eliminacija E2, so uporaba KOH ali NaOH ter segrevanje.

Prverite razumevanje

Izberite vsa aprotična topila.

Eliminacija E1 (višja raven)

Eliminacija prvega reda poteče podobno kot SN1 v dveh korakih. Prvi korak poteče počasi, pri tem nastane karbokation, drugi korak, odcep vode, je hiter. Mehanizem si oglejte na animaciji.

Pogoji za potek E1

Eliminacija prvega reda poteče v močno polarnem topilu, ob prisotnosti nukleofila, ki je šibka baza, če je halogen vezan na terciarni C-atom. Značilni reakcijski pogoji so prisotnost H2SO4 in segrevanje.

<NAZAJ
>NAPREJ91/335